要点的摘要：
随着间距尺寸的减小，EUV光刻面临电子模糊，随机性和极化的挑战。
电子模糊引起的对比损失约为50％，这显着影响随机波动。
极化效应越来越令人担忧，导致图像质量下降。
随着间距继续缩小，电子模糊，随机性和电流极化在EUV光刻造影的影响越来越强。
随着EUV光刻技术的持续发展，目标是获得越来越小的间距，并且新的身体局限性继续出现，成为一个强大的障碍。长期以来，随机效应一直被认为是一个关键挑战，并且最近对电子模糊进行了深入研究[3]，现在极化效应越来越成为图像质量下降的令人担忧的问题。随着行业朝着2NM节点发展，这些效果形成了一场完美的风暴，威胁着EUV印刷特征的质量。模糊和极化引起的对比损失使随机波动更有可能越过打印阈值。
图1显示了在18 nm螺距上在0.55 Na EUV光刻系统上的极化，模糊性和随机性的综合作用。偶极子引起的衰减[6]被忽略，因为它的效果相对较小。如果假定非偏振光[5]，则对比度损失为14％，但是电子模糊对图像中随机电子行为的加重的影响更为重要（约为50％的对比损失）。通过将极化引起的对比度减小与电子模糊引起的对比度还原引起的对比度还原，从而获得了总造影剂损失。
图1。9nm半迹象图由0.55 Na 13.5 nm波长EUV光刻系统投影。不包括图像衰减。假设的电子模糊显示在右侧。中心的随机电子密度图假定非极化光（50％TE，50％TM）。假设使用了20 nm厚的金属氧化物光孔（20/um吸收）。
边缘“粗糙度”非常严重，可以被视为缺陷。在整个打印阈值之间随机波动的概率不可忽视。随着间距的下降，我们应该期望这会变得更糟，因为电子模糊的影响更加严重，并且由非极化光引起的对比损失（图2）。
图2。图像对比度的减小随间隔的减小而恶化。电子密度的随机波动也变得更加严重。除了间距，所使用的假设与图1中的假设相同。
请注意，即使对于14 nm间距的情况，TE极化到非极化的23％对比损失仍然小于由于电子模糊引起的对比度损失（约为60％）。随着间距的继续下降，极化的影响将增加，模糊性的影响也会增加。如上面示例所述，尽管光刻界认为极化被认为是一个越来越令人担忧的问题，但电子模糊引起的对比度的降低仍然更加重要。因此，我们必须期望对EUV特征可打印性和随机图像波动的任何有用分析都应包括现实的电子模糊模型。
本站候鸟号已成立3年，主要围绕财经资讯类，分享日常的保险、基金、期货、理财、股票等资讯，帮助您成为一个优秀的财经爱好者。本站温馨提示：股市有风险，入市需谨慎。
暂无评论