据日经亚洲12月19日报道，成为日本第一家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，并已开始在正在建设的“IIM-1”芯片制造工厂安装极紫外光刻系统在北海道。 。
12月14日，荷兰供应商ASML生产的第一批极紫外光刻系统（EUV）组件抵达机场。由于该系统规模庞大，高约3.4米，每个完整单元重71吨，大约有鲸鱼那么大。该项目将分四期进行安装，预计本月底完成设备安装。
EUV 在日经亚洲卸货
极紫外光刻设备结合特殊光源、镜头等技术，形成超精细电路图案。由于系统较大，因此对振动和其他干扰不太敏感。
11月，CEO小池俊一带着ASML监事会成员van den Brink参观了洁净室和其他工厂。曾担任首席技术官并在开发极紫外（EUV）技术方面发挥关键作用的范登布林克（van den Brink）批准了该设备的安装。
ASML是全球唯一的极紫外光刻系统供应商。每个系统的价格超过1.8亿美元（约合人民币13.1亿元），具体取决于型号。这些系统需要高水平的操作技能，只有台积电、三星电子和英特尔等少数芯片制造商采用了 EUV 系统。去年全球仅交付了 42 套系统。
它正在与美国科技巨头国际商业机器公司IBM合作开发多阈值电压GAA（gate all ）晶体管技术，预计将用于2nm工艺的量产。计划于2025年春季采用最先进的2纳米工艺开发原型芯片，并于2027年开始量产芯片。全球最大的芯片代工厂台积电计划于2025年开始量产2纳米芯片。
更精细的电路可以为逻辑芯片提供更高的能效和计算能力。先进芯片对于人工智能和其他将决定未来几十年经济主导地位的技术至关重要。
日本半导体产业在20世纪80年代一度占据全球50%以上的市场份额。然而进入21世纪，由于技术发展滞后，日本芯片制造商无法生产出40纳米以上的芯片，并退出了更小芯片的生产。工艺逻辑芯片的竞争行列。
它得到了政府的支持，旨在恢复日本生产先进芯片的能力并减少对进口的依赖。日本政府的目标是，日本芯片制造商到2030年实现销售额1.5万亿日元（约合人民币705亿元），是2020年的三倍。
目前，日本政府已决定向日本提供9200亿日元（约合人民币432亿元）补贴，并计划在2025财年投资2000亿日元（约合人民币94亿元），但仍面临资金缺口4万亿日元（约合人民币1881亿元）。
小池百合子在 12 月 18 日于新千岁机场举行的仪式上表示：“我们将向世界提供来自北海道和日本的尖端半导体。”
日本建筑商鹿岛建设正在建造一座将容纳极紫外光刻系统 (EUV) 的建筑。洁净室由高砂热力工程公司建造。
下一步是建立专业知识。该公司已派出约150名工程师到IBM学习如何管理生产线。
日本政府数据显示，预计到2030年全球高端半导体市场规模将达到5.3万亿日元（约合人民币2900亿元），较2020年增长近8倍。
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